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        日本SAMCO 深硅蝕刻設(shè)備 RIE-400iP

        簡要描述:The RIE-400iP是一種高性能電感耦合等離子體(ICP)蝕刻系統(tǒng),它使用高密度等離子體來執(zhí)行光電器件和電子元件所需的化合物半導(dǎo)體蝕刻。

        • 更新時(shí)間:2026/1/12 7:08:17
        • 訪  問  量:1553
        • 產(chǎn)品型號(hào):RIE-400iP
        詳細(xì)介紹

         

         

        The RIE-400iP是一種高性能電感耦合等離子體(ICP)蝕刻系統(tǒng),它使用高密度等離子體來執(zhí)行光電器件和電子元件所需的化合物半導(dǎo)體蝕刻。


        該系統(tǒng)專為研發(fā)和中試生產(chǎn)客戶設(shè)計(jì),需要高規(guī)格,多功能和強(qiáng)大的系統(tǒng),具有出色的工藝技術(shù)。

         

         

         

        系統(tǒng)配置


        ●  配備先進(jìn)的ICP源:HSTC™(Hyper Symmetrical Tornado Coil) 可
            實(shí)現(xiàn)高度均勻且精確的蝕刻
        ●  獨(dú)創(chuàng)的ESC (靜電卡盤)提高了導(dǎo)熱性,可使晶圓片的溫度
            更為均勻
        ●  高速排氣系統(tǒng)且占地面積小
        ●  強(qiáng)化腔室設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)工藝穩(wěn)定性和可重復(fù)性
        ●  優(yōu)秀的工藝庫和技術(shù)
        ●  高達(dá)ø4“(100毫米)晶圓
        ●  人性化的操作界面
        ●  易于維護(hù)

         

         應(yīng)用場景 

        尺寸

         

         

         

        GaN Power Device

        GaAs VCSEL

         

        InP Laser
        (Cone shaped ICP Coil)

         

        設(shè)備參數(shù)

         

         

         

        常務(wù)需求

         

         

         

         

         

         

         

         


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